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等離子體是物質(zhì)除固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之外的第四態(tài)，通過對氣體施加足夠的能量使其電離，便可產(chǎn)生這種神奇的“高能狀態(tài)”。而小型等離子清洗機，正是利用這一原理的桌面型精密...
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等離子體干法刻蝕，簡而言之，是一種在真空條件下利用氣體放電產(chǎn)生的等離子體，對材料表面進行高精度、可控性去除的微納加工技術。通過掩膜和刻蝕參數(shù)的精細調(diào)控，它能夠在硅片等基材上實現(xiàn)各向異性或各向同性的圖形轉移，從而形成所需的微觀結構。這項技術不僅是集成電路制造中不可少的關鍵工藝，更是支撐現(xiàn)代材料科學、微機電系統(tǒng)及光電子學領域前沿研究的基石。一套完整的科研型等離子體干法刻蝕系統(tǒng)是一個高度集成的精密設備，其核心由五大子系統(tǒng)構成。首先是真空腔體與預真空室(LoadLock)，前者是等離...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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